在光学冷加工中，超声波清洗机是如何实现清洗的？光学清洗工艺主要以干燥的方式命名，如 IPA 工艺，是指利用 IPA（异丙醇）进行脱水干燥的清洗工艺， 纯水工艺是指利用热纯水慢提拉或冷纯水离心干燥的方式进行干燥的清洗工艺，IPA 工艺包括四个流程：清洗、漂洗、脱水、干燥。X6型超声波清洗发生器，KP系列超声波振板广泛应用于半导体清洗设备行业。

超声波清洗过程分溶剂清洗和水基清洗，不同的清洗工艺：有的先进行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗；也有的先进行溶剂清洗，再用乳化剂溶解溶剂，再进行水基清洗的。无机光学玻璃是一种过冷的熔融态物质，没有固定的分子结构，它的结构式可描述为二氧化硅和某些金属氧化物形成的网状结构。其骨架结构为键能很大的硅氧共价键，外围是键能小、易断裂的氧与金属离子形成的离子键。

在超声波清洗时，由于超声场和化学清洗剂的共同作用，某些硅氧键含量少或者外围键能特别小的的材料易于在清洗过程中发生变化而导致清洗效果不良。所以，选择性能温和的超声波清洗剂、合适的清洗剂浓度、清洗温度、超声波功率、清洗时间对保证镜片的清洗质量十分重要。利用DI水逐级溢流的方式将清洗后镜片表面的表面活性剂残留和污染物溶解、去除的过程称为漂洗。影响漂洗效果的因素有以下几个：清洗剂的漂清性能，漂洗水的纯度、温度以及流动性、超声波频率等。当超声波清洗频率在 40KHz 时，在常温下，电导率为 0.1μs/m 的纯水可以保证漂洗的要求。

经过漂洗后的镜片表面的洁净度应和漂洗水洁净度一致。当它进入 IPA 后，虽然 IPA 能和纯水相溶，但在超声波的作用下，这种混溶能进行得更快速、彻底，从而使得镜片表面的状态和混溶后 IPA 相同。这一过程称为IPA脱水。影响脱水的主要因素是IPA 的纯度、超声波频率、脱水时间。一般 IPA 的最低浓度要高于 97%。IPA脱水后的镜片进入 IPA 蒸汽槽干燥槽，利用IPA沸腾产生蒸汽的一种干燥方式。

电阻率大于 15MΩ·M 纯水在某一温度下，表面张力能达到最大，漂洗后的镜片浸入其中，表面不被润湿，在倾斜慢提拉离开时，由于极大的表面张力。纯水迅速在表面收缩成球形离开镜片，这种脱水方式称为（慢提拉DI脱水）脱水后的镜片在经过高效过滤器HEPA(High efficiency particulate air Filter)的热风下而达到干燥，这一过程称为:热风干燥方式所以，水的纯度、温度、慢提拉速度、工件的倾斜度、热风的洁净度对干燥的影响非常大。离心干燥的工艺很简单：经过纯水漂洗后的镜片放入离心甩干机中，在工件取得平衡时，启动甩干机，利用离心分离的原理将镜片表面的纯水分离达到干燥，对要求不高的镜片能取得满意效果，且能节省 IPA 和场地。但对甩干机的平衡性能要求很高。